产品详细介绍:
g-LiAlO2晶体属于四方晶系,空间群为P41212,晶格常数a=5.169Å,c=6.267Å,Li+和Al3+交替处于氧四面体中心,g-LiAlO2(100)面与GaN(1-100)面的晶格失配率相当小,为1.4%。g-LiAlO2晶体熔点为1700±20℃,比b-LiGaO2晶体的熔点高,在高温还原性气氛中的化学稳定性要好些,有研究表明LiAlO2在1030℃以下的MOCVD生长气氛中具有足够的化学稳定性。这些优点使得g-LiAlO2成为一种很有前途的GaN外延衬底材料。
铝酸锂单晶与氮化镓的晶格失配率非常小(1.4%)而成为氮化镓薄膜的优质基片。
基本性质
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