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g-LiAlO₂晶体属于四方晶系，空间群为P4₁2₁2，晶格常数a=5.169Å，c=6.267Å，Li⁺和Al³⁺交替处于氧四面体中心，g-LiAlO₂（100）面与GaN(1-100)面的晶格失配率相当小，为1.4%。g-LiAlO₂晶体熔点为1700±20℃，比b-LiGaO₂晶体的熔点高，在高温还原性气氛中的化学稳定性要好些，有研究表明LiAlO₂在1030℃以下的MOCVD生长气氛中具有足够的化学稳定性。这些优点使得g-LiAlO₂成为一种很有前途的GaN外延衬底材料.

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